[发明专利]包含与缩水甘油基酯化合物的反应生成物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201980042837.3 | 申请日： | 2019-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN112313226A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 远藤贵文;后藤裕一;远藤雅久;上林哲;远藤勇树 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C07D405/14 | 分类号： | C07D405/14;C08G59/20;G03F7/11;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 孙丽梅;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：通过下述式(1)所示的化合物、与环氧加成物形成用化合物的反应而获得的环氧加成生成物；以及溶剂。上述环氧加成物形成用化合物为选自含有羧酸的化合物、含有羧酸酐的化合物、含有羟基的化合物、含有硫醇基的化合物、含有氨基的化合物和含有酰亚胺基的化合物中的至少1种化合物。 |
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| 搜索关键词： | 包含 缩水 甘油 酯化 反应 生成物 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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