[发明专利]评估光刻工艺的元件的缺陷的未知效应的方法与装置有效
| 申请号： | 201980033041.1 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN112189169B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | A.弗雷塔格;C.休斯曼;D.塞德尔;C.施密特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/84;G06T7/00;G06V20/50;G06V10/75;G06V10/774 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明关于一种决定光刻工艺中的元件(450)的缺陷(650、660)的至少一个未知效应(250)的方法与装置。该方法(1000)包含下列步骤：(a)针对图像(600)、有关该图像(600)的设计数据(240)、以及由该图像(600)产生的光刻工艺中的该元件(450)的缺陷(650、660)的至少一个效应之间的关系，提供机器学习模型(200、300)；(b)使用用于训练目的的大量图像(830)、有关用于训练目的的图像(830)的设计数据(240)、以及缺陷(650、660)的对应效应，训练该机器学习模型(200、300)；以及(c)通过将该训练的模型(200、300)应用于测量的图像(600)及有关该测量的图像(600)的设计数据(240)，决定缺陷(650、660)的至少一个未知效应。 | ||
| 搜索关键词： | 评估 光刻 工艺 元件 缺陷 未知 效应 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司，未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980033041.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
