[发明专利]用于工艺灵敏度补偿的对准传感器装置有效
| 申请号： | 201980028130.7 | 申请日： | 2019-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN112020677B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | S·R·惠斯曼;T·M·T·A·M·埃拉扎雷;林宇翔;V·Q·特兰;S·A·戈登;J·L·克鲁泽;C·J·马松;I·M·P·阿尔茨;K·肖梅;I·策玛 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 对准传感器装置包括照射系统、第一光学系统、第二光学系统、检测器系统和处理器。照射系统被配置为沿照射路径透射照射光束。第一光学系统被配置为朝向衬底上的衍射目标透射照射光束。第二光学系统包括第一偏振光学器件，该第一偏振光学器件被配置为分离并且透射辐照度分布的。检测器系统被配置为基于从第一偏振分支和第二偏振分支输出的辐照度分布来测量衍射目标的重心。处理器被配置为测量由衍射目标中的不对称性变化引起的衍射目标的重心的偏移，并且基于重心偏移来确定对准传感器装置的传感器响应函数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 工艺 灵敏度 补偿 对准 传感器 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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