[发明专利]具有非线性光学器件的检查设备有效
| 申请号： | 201980023868.4 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN112005169B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | M·J·M·范达姆;R·C·席摩曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中提供一种检查设备或光刻设备，包括光学系统和检测器。所述光学系统包括非线性棱镜形光学器件。所述光学系统被配置成接收从衍射目标反射的零阶衍射束和一阶衍射束并且分离每阶衍射束的第一偏振和第二偏振。所述检测器被配置成同时检测所述零阶衍射束和一阶衍射束中的每个的第一偏振和第二偏振。基于一个或更多个衍射阶的所检测到的第一偏振和第二偏振，可以调整光刻设备的操作参数以改善所述光刻设备中的准确度或精度。所述光学系统可以包括多个非线性棱镜形光学器件。例如，所述光学系统可以包括多个沃拉斯顿棱镜。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 非线性 光学 器件 检查 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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