[发明专利]形成成核抑制涂层的材料和并入其的装置在审
| 申请号： | 201980022616.X | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN112135808A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | Y-L·常;Q·王;S·N·格宁;M·海兰德;J·邱;Z·王;B·H·莱萨尔 | 申请（专利权）人： | OTI照明公司 |
| 主分类号： | C07C22/08 | 分类号： | C07C22/08;C07C15/28;C07C25/22;C07C43/205;C09B1/00;H01L33/44;H01L51/54 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 魏延玲 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
光电装置包括衬底；设置在衬底上的第一电极；设置在第一电极上的半导体层；设置在半导体层上的第二电极，第二电极具有第一部分和第二部分；设置在第二电极的第一部分上的成核抑制涂层；以及设置在第二电极的第二部分上的导电涂层，其中成核抑制涂层是式(I)化合物 |
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| 搜索关键词： | 形成 成核 抑制 涂层 材料 并入 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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