[发明专利]转移多个微发光二极管到目标基板的方法及转移条、阵列基板、显示设备有效
| 申请号： | 201980000526.0 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN110214368B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 任锦宇;褚博华 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L27/15 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 刘悦晗;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了转移多个微发光二极管到目标基板的方法。所述方法包括：提供多个转移条，多个转移条中的对应一个包括沿第一方向顺序排列的多个保持单元；将多个微发光二极管转移到多个转移条的多个保持单元上；以及，将其上具有转移的多个微发光二极管的多个转移条相对彼此对齐，从而形成微发光二极管的阵列，在阵列中，来自多个转移条中的不同转移条的微发光二极管沿第二方向对齐并且来自多个转移条中的相同转移条的微发光二极管沿第一方向对齐，第二方向不同于第一方向。 | ||
| 搜索关键词： | 转移 多个微 发光二极管 目标 方法 阵列 显示 设备 | ||
【主权项】：
1.一种转移多个微发光二极管到目标基板的方法，包括：提供多个转移条，所述多个转移条中的对应一个包括沿第一方向顺序排列的多个保持单元，所述多个保持单元中的对应一个构造为容纳所述多个微发光二极管中的对应一个，所述多个保持单元中的所述对应一个从所述多个转移条中的所述对应一个可断开；将所述多个微发光二极管转移到所述多个转移条的所述多个保持单元上；以及将其上具有转移的所述多个微发光二极管的所述多个转移条相对彼此对齐，从而形成微发光二极管的阵列，在所述阵列中，来自所述多个转移条中的不同转移条的微发光二极管沿第二方向对齐并且来自所述多个转移条中的相同转移条的微发光二极管沿所述第一方向对齐，所述第二方向不同于所述第一方向。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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