[实用新型]一种碳化硅二极管有效

专利信息
申请号: 201922404007.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN210926028U 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 郑柳;何钧 申请(专利权)人: 重庆伟特森电子科技有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L21/04;H01L21/329
代理公司: 重庆中流知识产权代理事务所(普通合伙) 50214 代理人: 郭桂林
地址: 400700 重庆市*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型公开了一种碳化硅二极管,该碳化硅二极管包括一碳化硅衬底(11)、一碳化硅外延层(12)、一图形化的场板介质层(16b)、一图形化的肖特基接触电极(17b)和一欧姆接触电极层(18);碳化硅外延层(12)设置于碳化硅衬底(11)的正面;在碳化硅外延层(12)内且沿着碳化硅外延层(12)的上表面设置有图形化的离子注入区(15);碳化硅外延层(12)的上表面设置有图形化的场板介质层(16b),且碳化硅外延层(12)的上表面未图形化的场板介质层(16b)覆盖的区域设置有图形化的肖特基接触电极(17b);图形化的场板介质层(16b)的上表面的部分区域被图形化的肖特基接触电极(17b)覆盖,其余区域裸露;欧姆接触电极层(18)设置于碳化硅衬底(11)的背面。
搜索关键词: 一种 碳化硅 二极管
【主权项】:
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