[实用新型]一种紫外光刻曝光机基板清洁装置有效
| 申请号： | 201922302021.X | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN211086919U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 华平壤;姜城 | 申请（专利权）人： | 天津通软信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 蔡岩岩 |
| 地址： | 300000 天津市滨海新区经济技术*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，属于紫外曝光机技术领域。调节机构固定在支架的顶面，转动机构包括伺服电机、第二固定板、第二螺纹杆和第三螺纹杆，伺服电机安装在调节机构的顶面，第二固定板固定在伺服电机的输出轴的端部，第二固定板的顶面对称开设有两个第二滑槽，第二螺纹杆和第三螺纹杆分别转动连接在第二滑槽的内部，第二螺纹杆和第三螺纹杆固定连接，第二螺纹杆和第三螺纹杆的外表面分别螺接有夹紧块，第二固定板的内部开设有第二空腔，第二空腔的底部开设有通孔，第二固定板的底部安装有毛刷，第二空腔的顶面连通有连接管。本实用新型通过转动方式对紫外光刻曝光机基板进行清洗，提高了清洗的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 光刻 曝光 机基板 清洁 装置 | ||
【主权项】：
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