[实用新型]一种平面型铟镓砷焦平面探测器的PIN结结构有效

专利信息
申请号: 201922276927.9 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN211789059U 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 朱琴;龚晓霞;杨文运;宋欣波;李徳香;肖婷婷;范明国;杜润来;尚发兰;吕浩;柴圆媛;太云见;黄晖 申请(专利权)人: 云南北方昆物光电科技发展有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0352;H01L31/0304
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 周蜜
地址: 650223 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 实用新型涉及一种平面型铟镓砷焦平面探测器的PIN结结构,属于半导体结构技术领域。所述PIN结结构为控制InGaAs材料上N型InP层厚度为10nm~30nm;N型InP上位掩膜层;对掩膜层光刻表面图形化,去除掩膜层区域为二次外延生长区域,在二次外延区域上有一层掺杂Zn的P型InP层。具有所述PIN结结构的InGaAs焦平面探测器集合了台面型和平面型InGaAs焦平面探测器的优点,方法简单、串音小、光敏元可控、电流小、均匀性高、探测率高并且对人员所处环境要求低。
搜索关键词: 一种 平面 型铟镓砷焦 探测器 pin 结构
【主权项】:
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