[实用新型]一种化学机械抛光机的抛光压力分区控制装置

摘要

本实用新型公开了一种化学机械抛光机的抛光压力分区控制装置，包括工件轴、工件盘、工件保持器，被抛光元件的下端面与抛光盘上端面接触，工件盘上设有抛光压力分区控制机构，抛光压力分区控制机构包括若干个竖直固定在工件盘内的气压缸、固定在气压缸的顶杆末端的压力传感器，压力传感器与被抛光元件的上端面接触，工件轴上轴向由上至下安装有分路器和多通道旋转接头，分路器的进口通过气管与可变起源的相连。与现有技术相比，本实用新型通过压力传感器实时采集抛光压力，再通过分散布置的气压缸对抛光压力进行分区控制，最终实现抛光压力的在线实时控制和分区控制，保证了元件的均匀去除和面形快速收敛，实现更高的加工精度。