[实用新型]测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备有效

专利信息
申请号: 201922117598.3 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN210570515U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 周贤明;尉静 申请(专利权)人: 咸阳师范学院
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;C23C14/32;C23C14/54;C23C4/134
代理公司: 郑州豫原知识产权代理事务所(普通合伙) 41176 代理人: 李天丽
地址: 712000 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开的属于测量设备技术领域,具体为测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备,其包括:固定架、直线电机、显示屏和保护壳,所述固定架的两侧均开设有滑槽,两个所述滑槽内均活动连接有滑块,两个所述滑块的一侧均固定连接有连接杆,两个所述连接杆上均固定安装有调节螺栓,所述固定架的顶端两侧均固定安装所述直线电机,两个所述直线电机均固定连接有连接块,两个所述连接块的一侧均固定连接所述显示屏,所述显示屏的底端两侧均固定连接所述调节螺栓。该测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备,能够使装置内部保持洁净干燥,测量结果更加准确。
搜索关键词: 测量 真空 离子镀 等离子体 喷涂 镀膜 均匀 设备
【主权项】:
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