[实用新型]测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备有效
| 申请号: | 201922117598.3 | 申请日: | 2019-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN210570515U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
| 发明(设计)人: | 周贤明;尉静 | 申请(专利权)人: | 咸阳师范学院 |
| 主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;C23C14/32;C23C14/54;C23C4/134 |
| 代理公司: | 郑州豫原知识产权代理事务所(普通合伙) 41176 | 代理人: | 李天丽 |
| 地址: | 712000 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | 本实用新型公开的属于测量设备技术领域,具体为测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备,其包括:固定架、直线电机、显示屏和保护壳,所述固定架的两侧均开设有滑槽,两个所述滑槽内均活动连接有滑块,两个所述滑块的一侧均固定连接有连接杆,两个所述连接杆上均固定安装有调节螺栓,所述固定架的顶端两侧均固定安装所述直线电机,两个所述直线电机均固定连接有连接块,两个所述连接块的一侧均固定连接所述显示屏,所述显示屏的底端两侧均固定连接所述调节螺栓。该测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备,能够使装置内部保持洁净干燥,测量结果更加准确。 | ||
| 搜索关键词: | 测量 真空 离子镀 等离子体 喷涂 镀膜 均匀 设备 | ||
【主权项】:
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