[实用新型]一种便于清洁的半导体制造设备有效

专利信息
申请号: 201922116890.3 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN210668296U 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 张志平 申请(专利权)人: 襄阳斯迈克电气有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 六安众信知识产权代理事务所(普通合伙) 34123 代理人: 鲁晓瑞
地址: 441000 湖北省襄阳*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种便于清洁的半导体制造设备,属于半导体制造技术领域,包括底座,所述底座的上表面固定安装有刻蚀槽,刻蚀槽内部设置有两个耐腐蚀滤框,耐腐蚀滤框穿过刻蚀槽上表面开设的插孔延伸出刻蚀槽,耐腐蚀滤框的外表面固定安装有限位块;通过设置螺柱、活动板、滑杆、刮环和刮板,利用螺柱的转动带动活动板向上或向下运动,进而通过滑杆带动刮环向上或向下运动,进而对刻蚀槽的内侧壁进行清理,同时刮板跟随转轴a同步转动对刻蚀槽内侧壁的下表面进行清理,进而可以对刻蚀槽内侧壁进行全方位清洁,同时利用耐腐蚀滤框来盛放半导体器件,避免刻蚀产生的较大的杂质调入到刻蚀槽内,结构简单,操作方便。
搜索关键词: 一种 便于 清洁 半导体 制造 设备
【主权项】:
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