[实用新型]γ源曝光中心装置有效
| 申请号： | 201922052272.7 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN211086148U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 蔡玉乐;蔡元立 | 申请（专利权）人： | 蔡元立 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 汪建华 |
| 地址： | 315200 浙江省宁波市镇*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了γ源曝光中心装置，包括空心管状主机、输源管、支撑臂，主机周侧至少设3个支撑臂，支撑臂包括滑轮、支脚，支脚上安装滑轮，支脚包括相套合的粗管体及细管体，细管体端部转动连接滑轮，细管体上延轴向分布有多个定位珠，对应的粗管体腔内壁上开孔，本γ源曝光中心装置的支撑臂采用定位珠进行定位，自由拉伸进行长度的调节，便于适应不同管径的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 中心 装置 | ||
【主权项】：
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