[实用新型]光学系统有效
| 申请号： | 201921941258.6 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN211043830U | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 吴升海;郭小娴 | 申请（专利权）人： | 赛默飞世尔(上海)仪器有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G01N15/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江漪 |
| 地址： | 201206 上海市浦东新区中国(上海)*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光学系统，包括：光学整形元件，其设计成将光束整形为在第一轴线和第二轴线上的光强均为平顶分布；光学聚焦元件，其在第一轴线上和在第二轴线上的放大倍率分别设计成：在指定区域处，光束在第一轴线上的第一光斑尺寸与第一衍射极限尺寸之间存在第一差值，第一差值使光束在第一轴线上的光强保持平顶分布，光束在第二轴线上的第二光斑尺寸与第二衍射极限尺寸之间存在第二差值，第二差值使光束在第二轴线上的光强为高斯分布。借助该光学系统，可通过“两级压缩”光束来获得所需的在不同轴线上的不同光强分布型式。这相比于直接利用光学整形元件的曲面设计获得所需光强分布在光学元件选择上灵活性更高、设计成本更低。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 | ||
【主权项】：
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