[实用新型]光源调制模块及光学相干层析成像分析系统有效
申请号: | 201921703654.5 | 申请日: | 2019-10-12 |
公开(公告)号: | CN211528210U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 卞海溢;徐浩渊;季仁东;王晓燕;陈瑞强;朱铁柱;于银山;丁靓;韩亚;曹蕾 | 申请(专利权)人: | 淮阴工学院 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;G01N21/01;G02B26/10;G02B27/28;G02B27/42 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 颜盈静 |
地址: | 223005 江苏省淮安市洪泽区东七街三号高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提出了一种光源调制模块及光学相干层析成像分析系统,通过对光学相干层析成像系统的光源进行频率调制去除复共轭像,包括光纤耦合器一、动镜模块、静镜模块和光纤耦合器二;所述光纤耦合器一对普通光源进行耦合后分别入射至动镜模块和静镜模块,经动镜模块和静镜模块反射的反射光送入所述光纤耦合器二进行耦合得到干涉信号,该干涉信号作为光学相干层析成像系统的光源入射至光学相干层析成像系统;所述动镜模块包括依次设置的准直透镜一、平面反射镜一和驱动所述平面反射镜一进行移动的电机;所述静镜模块包括依次设置的准直透镜二和平面反射镜二。 | ||
搜索关键词: | 光源 调制 模块 光学 相干 层析 成像 分析 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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