[实用新型]用于清洁曝光机的菲林的清洁机构及其曝光机的上下料机有效
| 申请号: | 201921594137.9 | 申请日: | 2019-09-24 |
| 公开(公告)号: | CN210626876U | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
| 发明(设计)人: | 唐琦 | 申请(专利权)人: | 深圳市兆方智能科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B7/00 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 朱远平;黄韧敏 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市光明新区*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型适用于菲林清洁设备技术领域,提供了一种用于清洁曝光机的菲林的清洁机构及其曝光机的上下料机,用于清洁曝光机的菲林的清洁机构,包括:菲林清洁单元,其包括清洁本体以及粘尘滚轮,所述粘尘滚轮可旋转连接于所述清洁本体的一端,所述清洁本体的另一端为至少一个自动伸缩抵紧臂,所述自动伸缩抵紧臂的一端与驱动单元连接;驱动单元,其包括第一电机以及旋转组件,所述第一电机与所述旋转组件联接,驱动所述旋转组件旋转;所述自动伸缩抵紧臂的一端与所述旋转组件连接,所述旋转组件驱动所述自动伸缩抵紧臂摆动。借此,本实用新型的用于清洁曝光机的菲林的清洁机构,自动对菲林进行清洁,提升了效率,清洁的稳定性以及可靠性。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 清洁 曝光 机构 及其 上下 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





