[实用新型]掩模版保护膜的撬膜装置有效
| 申请号: | 201921385839.6 | 申请日: | 2019-08-23 |
| 公开(公告)号: | CN210864315U | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
| 发明(设计)人: | 张闯;严江伟 | 申请(专利权)人: | 无锡迪思微电子有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64 |
| 代理公司: | 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 | 代理人: | 贾传美;赵华 |
| 地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型提供掩模版保护膜的撬膜装置,包括:掩模温控模块,该模块设置于下平台内;膜框冷却模块,位于上盖板上且对应膜框位置,用于对模框降温;掩模版固定装置,分布在掩模版外周圈,用于固定掩模版;连接件,用于连接上盖板与膜框,上盖板开启时,带动膜框、保护膜从掩模版上脱离,本专利申请利用掩模版加热模块对掩模版进行加热,在通过高温将掩模版上的胶融化的同时,并利用液体冷却给于膜框低温特性,增强胶对膜框的粘性,从而使去膜过程中,既降低了胶对掩模铬层带来伤害的风险,也减少了胶粘附在掩模版上的几率。 | ||
| 搜索关键词: | 模版 保护膜 装置 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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