[实用新型]一种清洗光罩的装置有效
| 申请号: | 201921299428.5 | 申请日: | 2019-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN210270506U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
| 发明(设计)人: | 凌永康;张勇;杜良辉 | 申请(专利权)人: | 江苏壹度科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及光罩技术领域,具体为一种清洗光罩的装置,包括底座,底座的顶部设有清洗室,清洗室的底部中心处竖直开设有第一通孔,清洗室的底部且位于靠近第一通孔的位置由内向外设有若干个第一环形刷,清洗室的顶部设有顶盖,顶盖的底部开设有第二凹槽,第二凹槽的底部中心处设有环形圆柱槽,第二凹槽的底部且位于靠近环形圆柱槽的位置由内向外依次设有若干个第二环形刷。该清洗光罩的装置,通过第一固定盘和第二固定盘可以与光罩起到互相固定的作用,通过第一环形刷和第二环形刷可以将光罩两面同时进行清洗,通过进水接口可以在清洗过程中一直注入干净的纯水,通过设有的出水接口可以将清洗后的水放出,提高了对光罩的清洗效率。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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