[实用新型]一种端承型基础设计中持力层不同时复合地基结构有效

专利信息
申请号: 201921184143.7 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN210529663U 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 聂利霞;王泽沛 申请(专利权)人: 重庆基准方中建筑设计有限公司
主分类号: E02D3/00 分类号: E02D3/00;E02D27/00
代理公司: 重庆嘉禾共聚知识产权代理事务所(普通合伙) 50220 代理人: 吴迪
地址: 400000 重庆市*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型涉及一种端承型基础设计中持力层不同时复合地基结构,包括持力层不同的基岩和基础,所述基础设置在基岩内,所述基础底面设置褥垫层复合基础;位于所述基岩下方的基础四周设置卷材隔离层。本实用新型结构新颖,对现有解决建筑物不均匀沉降方法提出的新结构,在基底以下设置褥垫层,利用褥垫层的特性使结构整体沉降协调,提升结构安全性。同时,该法施工工艺简单,成本低,有较强适用性。
搜索关键词: 一种 端承型 基础 设计 中持力层不 同时 复合 地基 结构
【主权项】:
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