[实用新型]一种均温真空离子渗氮炉有效

专利信息
申请号: 201921159236.4 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN210420122U 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 林育周;刘浩;孔祥刚 申请(专利权)人: 深圳市正和德昌科技有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 代理人: 翁晓婵
地址: 518117 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种均温真空离子渗氮炉,属于离子渗氮炉技术领域,包括炉体,所述炉体外侧壁顶部水平方向固定连接有第一法兰,所述炉体顶部可拆卸连接有顶盖,所述顶盖外侧壁底部固定连接有第二法兰,所述顶盖内部开设有冷却槽,所述顶盖顶部一侧竖直方向开设有进气管,所述顶盖底部粘接有密封垫圈,其在工件支座的底部安装有加热器,可对工件进行加热,缩短渗氮工艺的耗时,且能提高工件底部的温度,避免了炉内温度不均导致影响工件渗氮效果和质量的情况,顶盖内部开设有冷却槽,通过注入冷却水,可在进行渗氮工艺时降低顶盖底部粘接的密封垫圈的受热,使之保持完整,避免因为密封垫圈受热变形导致影响炉体密封效果的情况。
搜索关键词: 一种 真空 离子 渗氮炉
【主权项】:
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