[实用新型]一种氮化均匀的离子渗氮装置有效
申请号: | 201921158778.X | 申请日: | 2019-07-23 |
公开(公告)号: | CN210420119U | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 林育周;刘浩;孔祥刚 | 申请(专利权)人: | 深圳市正和德昌科技有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36 |
代理公司: | 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 | 代理人: | 翁晓婵 |
地址: | 518117 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种氮化均匀的离子渗氮装置,属于离子渗氮技术领域,所述渗氮装置包括炉体和底座,所述炉体底部可拆卸连接有底座,所述炉体内腔底部可拆卸连接有轴承,所述轴承上方转动连接有阴极支柱,所述轴承一侧焊接有环形凸块,所述环形凸块上表面一体成型有环形插接块,所述环形插接块上方可拆卸连接有罩壳,所述罩壳顶部一体成型有连接块。本实用新型通过导气管设置有若干个,同时导气管与空腔导通相连,通过抽气管延伸至炉体外部并外接抽气设备,可均匀的将罩壳内部的气体抽出,有利于提高氮化的均匀性,通过一号电机驱动载板转动,从而使工件做圆周运动,使工件的首端和末端在相同的时间内与阳极的距离相同。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 均匀 离子 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市正和德昌科技有限公司,未经深圳市正和德昌科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921158778.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电子围栏报警装置
- 下一篇:一种离子渗氮炉的供气系统
- 同类专利
- 专利分类