[实用新型]光学挡墙结构有效
| 申请号： | 201920950126.3 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN209963083U | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 李蕙如 | 申请（专利权）人： | 培英半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L33/44;H01L33/58;H01L31/0232;H01L31/0216;H01L31/0203 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭化雨 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光学挡墙结构，其包括一基板、一第一挡墙层、一雷射遮蔽铜层及一第二挡墙层，基板具有一工作面，第一挡墙层形成于工作面上，且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗；雷射遮蔽铜层形成于第一挡墙层的一上表面但不形成于围构第一开窗的侧壁；第二挡墙层形成于雷射遮蔽铜层上，且第二挡墙层围构一第二开窗，第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层，第二开窗的轮廓大于第一开窗，且第二开窗裸露雷射遮蔽铜层的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 挡墙层 开窗 雷射 铜层 遮蔽 基板 裸露 本实用新型 挡墙结构 上表面 侧壁 | ||
【主权项】：
1.一种光学挡墙结构，其特征在于，包括：/n一基板，具有一工作面；/n一形成于该工作面上的第一挡墙层，该第一挡墙层围构一第一开窗，该工作面在该第一开窗中裸露；/n一雷射遮蔽铜层，形成于该第一挡墙层的一上表面但不形成于围构该第一开窗的侧壁；以及/n一形成于该雷射遮蔽铜层上的第二挡墙层，该第二挡墙层围构一第二开窗，该第二挡墙层的横截面积小于该第一挡墙层，该第二开窗的轮廓大于该第一开窗，且该第二开窗裸露该雷射遮蔽铜层的一部分。/n
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