[实用新型]气体供给系统有效
| 申请号： | 201920908551.6 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN210069488U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 刘凯;董洪波;王刚;张向飞 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/02 | 分类号： | F17D1/02;F17D3/01 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种气体供给系统，用于给用气组件供气，包括：厂务气源和备用气源，厂务气源通过管路连接用气组件；备用气源与厂务气源并联设置，备用气源被配置为在厂务气源异常时为用气组件供气。上述的气体供给系统包括备用气源，备用气源能够在厂务气源出现异常时为用气组件供气，以确保用气组件在厂务气源出现异常后仍然能够稳定工作。上述的气体供给系统应用于激光退火工艺能够保证用气组件稳定吸附硅片，避免硅片掉落，从而可以确保硅片传输安全可靠，有利于提高激光退火工艺效率，节约激光退火工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 气源 备用气源 气体供给系统 激光退火 供气 硅片 本实用新型 并联设置 工艺成本 工艺效率 管路连接 硅片传输 掉落 吸附 节约 配置 应用 保证 | ||
【主权项】：
1.一种气体供给系统，用于给用气组件(10)供气，其特征在于，包括：/n厂务气源(20)，所述厂务气源(20)通过管路(40)连接用气组件(10)；/n备用气源(30)，与所述厂务气源(20)并联设置，所述备用气源(30)被配置为在所述厂务气源(20)异常时为所述用气组件(10)供气。/n
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