[实用新型]一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统有效
| 申请号: | 201920897168.5 | 申请日: | 2019-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN210287521U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
| 发明(设计)人: | 杨福年;郑锡文 | 申请(专利权)人: | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司: | 东莞市启信展华知识产权代理事务所(普通合伙) 44579 | 代理人: | 冯蓉 |
| 地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型公开一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,包括一个PECVD等离子设备真空仓体、两个第一药水蒸发罐、一个第二药水蒸发罐、一真空泵组,在PECVD等离子设备真空仓体的外周配设了多个药水蒸发罐,这些药水蒸发罐通过各自对应的多个接口与PECVD等离子设备真空仓体相连,且这些接口在PECVD等离子设备真空仓体上是均匀分布的,从而使得多种药水蒸发罐蒸发出的等离子气体在PECVD等离子设备真空仓体上均匀分布。同时,还配设有真空泵组,真空泵组与PECVD等离子设备真空仓体的两个以上的第三接口相接,相对于传统只有一个接口,两个以上的第三接口使得抽真空更为快速,再配置真空角阀和碟阀,用于与控制中心连接,实现智能控制。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 新型 pecvd 等离子 设备 智能 药水 配比 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





