[实用新型]一种半导体刻蚀设备腔室的清洗机构有效
| 申请号： | 201920886686.7 | 申请日： | 2019-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN210730444U | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 廖海涛 | 申请（专利权）人： | 江苏邑文微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/087 | 分类号： | B08B9/087;B08B9/093 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 施荣华;胡建锋 |
| 地址： | 226000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种半导体刻蚀设备腔室的清洗机构，涉及半导体刻蚀设备清洗技术领域，该半导体刻蚀设备腔室的清洗机构，包括电机，所述电机输出轴固定连接有连接器，所述连接器远离电机的一端固定安装有丝杆，所述丝杆的表面套接有滑块，所述滑块的底端固定安装有伸缩杆，所述伸缩杆的底端固定连接有清洁刷，所述丝杆远离电机的一端套接有固定支座，该半导体刻蚀设备腔室的清洗机构，一方面，通过压力泵能够使刻蚀腔室内的气体排出，通过排气口和排气管能够有效的使刻蚀腔室内部与外部形成压力差，提高了刻蚀腔室内气体排出的效率，另一方面，通过吹风机提高了刻蚀腔室内部排气的强度，使刻蚀腔室内部的碎屑更容易被清理出去。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 刻蚀 设备 清洗 机构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏邑文微电子科技有限公司，未经江苏邑文微电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920886686.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种日常用品收纳架
- 下一篇：一种医疗档案密集存放柜
