[实用新型]深度成像装置有效
申请号: | 201920874583.9 | 申请日: | 2019-06-11 |
公开(公告)号: | CN210128694U | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 朱力;吕方璐;汪博 | 申请(专利权)人: | 深圳市光鉴科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/22 | 分类号: | G01B11/22;G01B11/30;G02B27/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518054 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种深度成像装置,包括光投射器和成像模块;所述光投射器包括离散光束投射器和面光源投射器;所述离散光束投射器,用于向所述目标物体投射多束离散准直光束;所述面光源投射器,用于向所述目标物体投射泛光;所述成像模块包括第一成像模块和第二成像模块;所述第一成像模块,用于接收所述目标物体反射的所述散准直光束,并根据多束所述散准直光束形成的光斑图案获得所述目标物体表面的第一深度图像;所述第二成像模块,用于接收所述目标物体反射后的泛光,并根据所述泛光的传播时间获得所述目标物体表面的第二深度图像。本实用新型综合利用了结构光和tof成像的特点,实现对目标物体深度图像的准确采集。 | ||
搜索关键词: | 深度 成像 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市光鉴科技有限公司,未经深圳市光鉴科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920874583.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种制糖厂用污水处理设备
- 下一篇:一种定时屏蔽罩静置缓存机构