[实用新型]一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统

摘要

本实用新型提供一种同向偏振的多路激光干涉光刻系统。该系统包括依次排列的激光产生组件、光束整形组件和干涉组件，其中：激光产生组件用于产生多路相干的平行光束；光束整形组件包括依次排列的扩束准直单元和光束整形单元，扩束准直单元用于对多路相干的平行光束进行准直，光束整形单元用于对进行准直后的光束进行能量均匀化处理；干涉组件包括偏振态调制单元，该偏振态调制单元用于微量调整经能量均匀化处理之后光束之间的夹角和光束的偏振态，获得相交于一点的干涉光。利用本实用新型提供的系统，能够较容易地获得光强分布均匀、对比度更明显的多光束干涉条纹。