[实用新型]一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体有效
| 申请号: | 201920705575.1 | 申请日: | 2019-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN210110718U | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
| 发明(设计)人: | 章文军;杨春水;宁腾飞;陈彦岗;杨春涛;王继飞;张坤;闫萧;蔡传涛;席涛涛;王磊 | 申请(专利权)人: | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B01D53/74 |
| 代理公司: | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人: | 郑直 |
| 地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体,包括入口管、外管、内管、出水管、进水管,所述外管和内管通过上法兰和下法兰焊接固定,所述外管设于内管外侧且两者之间形成一冷却腔,所述入口管有若干个,入口管安装于内管的侧面且呈周向分布,入口管的外端延伸至外管的外侧,冷却腔和入口管之间通过隔绝管密封,所述出水管和进水管分别设在外管壁上方和下方且和冷却腔相通,所述下法兰的侧面安装有与内管连通的进气管。这种半导体废气处理设备的废气反应腔体,在使用过程中隔热效果优越、密封性好、热能损失小、安装方便快捷。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 应用于 半导体 废气 处理 设备 反应 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





