[实用新型]一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体有效

专利信息
申请号: 201920705575.1 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN210110718U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 章文军;杨春水;宁腾飞;陈彦岗;杨春涛;王继飞;张坤;闫萧;蔡传涛;席涛涛;王磊 申请(专利权)人: 安徽京仪自动化装备技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B01D53/74
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 郑直
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体,包括入口管、外管、内管、出水管、进水管,所述外管和内管通过上法兰和下法兰焊接固定,所述外管设于内管外侧且两者之间形成一冷却腔,所述入口管有若干个,入口管安装于内管的侧面且呈周向分布,入口管的外端延伸至外管的外侧,冷却腔和入口管之间通过隔绝管密封,所述出水管和进水管分别设在外管壁上方和下方且和冷却腔相通,所述下法兰的侧面安装有与内管连通的进气管。这种半导体废气处理设备的废气反应腔体,在使用过程中隔热效果优越、密封性好、热能损失小、安装方便快捷。
搜索关键词: 一种 应用于 半导体 废气 处理 设备 反应
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