[实用新型]一种改善测量镭射距离的装置有效
| 申请号： | 201920593057.5 | 申请日： | 2019-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN210180355U | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 李汉生;蔡雪良;王尚森;黄建光;吕亚明 | 申请（专利权）人： | 昆山中辰矽晶有限公司 |
| 主分类号： | G01B5/14 | 分类号： | G01B5/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215316 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种改善测量镭射距离的装置，用以测量镭射制程工艺中字符离硅晶片平口、圆弧接触角的距离。所述装置包括一测量平台与两卡尺治具；所述测量平台用以放置需测量的硅晶片；所述测量平台两侧有两条凹槽，用来放置卡尺治具；所述测量平台中间有一镂空位置，用以移动需测量的硅晶片，便于测量；所述卡尺治具放置于测量平台上方凹槽中，用以固定测量工具进行测量硅晶片镭射距离。在测量无参照物且测量距离大于显微镜最大量程的情况下，此装置可以精确测量，达到0.01mm的精确度，从而提高测量范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 测量 镭射 距离 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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