[实用新型]一种太阳能电池硅片清洗装置有效
申请号: | 201920566980.X | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN209561351U | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 张蒙;罗威 | 申请(专利权)人: | 湖北华昶能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 441333 湖北省随州市曾都区洛阳镇*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型涉及到太阳能电池生产技术领域。是一种太阳能电池硅片清洗装置。其特征是在上料台上从右到左依序有预清洗槽、第一药剂清洗槽、第二药剂清洗槽、第三药剂清洗槽、中温清洗槽、第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽、第三纯水漂洗槽和高温清洗槽,上述每个漂洗槽和漂洗槽中都安有超声波清洗板;所述的上料台上有烘道、链条传送带,上料台下有回风口;上料台的左端有下料台,上料台的下端有送风口,风机与送风口连接。由于采用了本技术方案,增加了烘干机烘道长度,增加了5个烘干段,缩短为烘干作业节拍,释放烘干产能,提高硅片清洗机产能。 | ||
搜索关键词: | 纯水漂洗 药剂清洗 上料 太阳能电池硅片 清洗装置 漂洗槽 上料台 送风口 烘干 产能 烘道 太阳能电池生产 本实用新型 超声波清洗 硅片清洗机 链条传送带 高温清洗 预清洗槽 作业节拍 烘干段 烘干机 回风口 清洗槽 下料台 风机 下端 中温 左端 释放 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池硅片清洗装置, 其特征是在上料台(11)上从右到左依序有预清洗槽(1)、第一药剂清洗槽(2)、第二药剂清洗槽(3)、第三药剂清洗槽(4)、中温清洗槽(5)、第一纯水漂洗槽(6)、第二纯水漂洗槽(7)、第三纯水漂洗槽(8)和高温清洗槽(9),上述每个漂洗槽和漂洗槽中都安有超声波清洗板;所述的上料台(11)上有烘道(12)、链条传送带(14),上料台(11)下有回风口(13);上料台(11)的左端有下料台(16),上料台(11)的下端有送风口(15),风机(10)与送风口(15)连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造