[实用新型]一种首饰真空贵金属溅射设备有效
| 申请号： | 201920452846.7 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN210048844U | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 郭礼淳 | 申请（专利权）人： | 深圳市昊翀珠宝科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/35;C23C14/02;A44C27/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区园*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种首饰真空贵金属溅射设备，磁控金箱体上设置有用于控制设备运行状态的控制开关，磁控金箱体上设置有真空抽气系统，真空抽气系统与溅射室通过导气管连通，溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶，溅射室上部设置有加热器，溅射室底部设置有物料旋转执行机构，物料旋转执行机构上设置有用于悬挂物料的物料架。本实用新型能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射室 旋转执行机构 真空抽气系统 本实用新型 贵金属 磁控 溅射 首饰 加热器 磁控溅射靶 贵金属涂层 溅射设备 控制设备 设备操作 饰品表面 运行状态 导气管 物料架 抗污 连通 室内 悬挂 | ||
【主权项】：
1.一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：包括磁控金箱体(1)、磁控金箱门(2)、控制开关(3)、真空抽气系统(4)、贵金属磁控溅射靶(5)、加热器(6)、物料旋转执行机构(7)和物料架(8)，所述磁控金箱体(1)内设置有溅射室，所述溅射室入口处设置有磁控金箱门(2)，所述磁控金箱体(1)上设置有用于控制设备运行状态的控制开关(3)，所述磁控金箱体(1)上设置有真空抽气系统(4)，所述真空抽气系统(4)与溅射室通过导气管连通，所述溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶(5)，所述溅射室上部设置有加热器(6)，所述溅射室底部设置有物料旋转执行机构(7)，所述物料旋转执行机构(7)上设置有用于悬挂物料的物料架(8)。/n
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