[实用新型]一种提高激光功率稳定性用的激光器自动优化装置有效
申请号: | 201920236195.8 | 申请日: | 2019-02-25 |
公开(公告)号: | CN209418976U | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 崔晓敏 | 申请(专利权)人: | 苏州英谷激光有限公司 |
主分类号: | H01S3/10 | 分类号: | H01S3/10;H01S3/04;H01S3/042 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 梁永昌 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种激光器自动优化装置,具体是一种提高激光功率稳定性用的激光器自动优化装置,包括MCU控制模块,所述MCU控制模块左侧设有功率检测器,功率检测器上端设有分光镜,MCU控制模块右侧设有反馈制冷模块,反馈制冷模块上端设有激光晶体控温模块。本实用新型可以微调控温模的温度,实现闭环的反馈自动优化,进而可保证激光器能够一直稳定工作在最初设置的功率点,长期保持稳定的工作状态,有利于提高加工效果的一致性。解决了现在的主动散热方案,外部制冷系统的状态变化会对激光器的参数和性能造成很大的影响,比较难以做到长期稳定地工作的问题。 | ||
搜索关键词: | 激光器 自动优化装置 本实用新型 功率检测器 激光功率 制冷模块 上端 反馈 外部制冷系统 闭环 长期稳定 激光晶体 控温模块 主动散热 状态变化 自动优化 分光镜 功率点 温模 调控 加工 保证 | ||
【主权项】:
1.一种提高激光功率稳定性用的激光器自动优化装置,包括MCU控制模块(6),其特征在于,所述MCU控制模块(6)左侧设有功率检测器(7),功率检测器(7)上端设有分光镜(1),MCU控制模块(6)右侧设有反馈制冷模块(5),反馈制冷模块(5)上端设有激光晶体控温模块(3)。
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