[实用新型]一种刻蚀阳极屏蔽绝缘装置有效
| 申请号： | 201920224626.9 | 申请日： | 2019-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN210085559U | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌;刘伟;刘俊红;胡晓忠 | 申请（专利权）人： | 苏州艾钛科纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 王鑫 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种刻蚀阳极屏蔽绝缘装置，包括真空室、弧源、转架、阳极屏蔽罩及挡板；所述弧源正电子端接刻蚀阳极上，所述弧源负电子端接弧靶阴极接线柱上，以此构成弧光放电阴阳极回路；所述阳极屏蔽罩设置在所述刻蚀阳极背部及侧面；所述挡板设置在弧靶阴极前并正对于所述刻蚀阳极的一侧上，所述弧靶阴极为复数个，所述挡板对应所述弧靶阴极也为复数个；所述阳极屏蔽罩位于所述挡板与所述刻蚀阳极之间；所述转架设置在所述真空室内；所述转架上设置待镀产品工位。本实用新型结构简单、可拆卸，且屏蔽效果好。能有效提高对基材刻蚀和离子注入效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 阳极 屏蔽 绝缘 装置 | ||
【主权项】：
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