[实用新型]一种适用于超大规模原子层沉积的给料系统有效
| 申请号： | 201920147914.9 | 申请日： | 2019-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN209652421U | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 董仲 | 申请（专利权）人： | 南京爱通智能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 32285 南京先科专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 孙甫臣<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 210000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种适用于超大规模原子层沉积的给料系统，包括硅片载具以及夹持所述硅片载具的第一端盖法兰和第二端盖法兰；所述第一端盖法兰和第二端盖法兰通过若干根垂直穿过第一端盖法兰和第二端盖法兰的轴连接形成整体，轴的其中一端穿过所述第一端盖法兰，与第二端盖法兰连接；轴的另一端伸出第一端盖法兰，且伸出部分上套设有一弹簧，伸出端的端部设置轴盖，将所述弹簧限制在轴的伸出端。本实用新型中硅片载具作为内腔室的一部分，极大的减少了其自重，转运轻便，同时此给料系统载具直接受热，可明显提高加热速率、缩短加热时间，热量利用率高。 | ||
| 搜索关键词： | 第一端 法兰 端盖法兰 载具 硅片 本实用新型 给料系统 伸出 弹簧 加热 热量利用率 原子层沉积 垂直穿过 直接受热 内腔室 伸出端 轴连接 轻便 夹持 上套 轴盖 转运 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种适用于超大规模原子层沉积的给料系统，其特征在于，包括硅片载具以及夹持所述硅片载具的第一端盖法兰和第二端盖法兰；/n所述第一端盖法兰和第二端盖法兰通过若干根垂直穿过第一端盖法兰和第二端盖法兰的轴连接形成整体，轴的其中一端穿过所述第一端盖法兰，与第二端盖法兰连接；轴的另一端伸出第一端盖法兰，且伸出部分上套设有一弹簧，伸出端的端部设置轴盖，将所述弹簧限制在轴的伸出端。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
