[实用新型]磁控溅射反应腔室的冷却组件及其磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201920110253.2 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN209890728U | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 常青;李冰;边国栋 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 11401 北京金智普华知识产权代理有限公司 | 代理人： | 巴晓艳 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种磁控溅射反应腔室的冷却组件及其磁控溅射设备，其中的组件包括：适配器；适配器被设置为遮蔽内衬的底部和侧壁，用于将内衬固定在反应腔室内；适配器的侧壁与内衬的侧壁之间具有预设的间隙，适配器的底部与内衬的底部相接触，适配器设置有冷却水道，用以对内衬的侧壁、底部进行降温。本实用新型的冷却组件及其磁控溅射设备，能够增加热接触面积，增加适配器与内衬侧壁的传热效率；通过对内衬侧壁和底面的降温，稳定工艺反应区域温度，避免反应区域温度升高对衬底和薄膜的影响；减少水道加工步骤和难度，减少清洗难度；无需密封圈对水路的密封，能够减少漏水的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 适配器 侧壁 内衬 磁控溅射设备 本实用新型 反应区域 冷却组件 密封圈 传热效率 磁控溅射 反应腔室 加工步骤 冷却水道 内衬侧壁 稳定工艺 组件包括 反应腔 热接触 衬侧 衬底 漏水 预设 遮蔽 薄膜 密封 清洗 水道 水路 室内 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射反应腔室的冷却组件，其特征在于，包括：/n适配器；所述适配器被设置为遮蔽内衬的底部和侧壁，用于将所述内衬固定在反应腔室内；所述适配器的侧壁与所述内衬的侧壁之间具有预设的间隙，所述适配器的底部与所述内衬的底部相接触，所述适配器设置有冷却水道，用以对所述内衬的侧壁、底部进行降温。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920110253.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于树脂工艺品的新型真空电镀工具
- 下一篇：镀膜治具和镀膜设备
- 同类专利
- 专利分类
