[实用新型]一种晶片清洗盆

摘要

本实用新型公开了一种晶片清洗盆，该清洗盆包括：钵状主体，所述钵状主体的内部底面中心位置设有凸起结构，所述凸起结构的中部设置第一通孔，所述第一通孔的边缘设置有向上延伸的环形件，所述钵状主体的底部连通有抽气管道；固定模组，所述固定模组的第一端穿过所述第一通孔用来固定晶片，所述固定模组的第一端设置有向下延伸的环形扣；升降模组，所述升降模组的移动端与所述固定模组的第二端固定连接；其中，所述环形扣的直径大于所述环形件的直径，所述升降模组处于下降状态时，所述环形扣罩设在所述环形件上，所述环形扣的下边沿高度小于所述环形件的上边沿高度。本实用新型的有益效果为提供晶片清洗的固定与废液收集平台。

主权项

1.一种晶片清洗盆，其特征在于，该清洗盆包括：/n钵状主体（1），所述钵状主体（1）的内部底面中心位置设有凸起结构（11），所述凸起结构（11）的中部设置第一通孔（111），所述第一通孔（111）的边缘设置有向上延伸的环形件（112），所述钵状主体（1）的底部连通有抽气管道（14）；/n固定模组（2），所述固定模组（2）的第一端穿过所述第一通孔（111）用来固定晶片（9），所述固定模组（2）的第一端设置有向下延伸的环形扣（21）；/n升降模组（3），所述升降模组（3）的移动端与所述固定模组（2）的第二端固定连接；/n其中，/n所述环形扣（21）的直径大于所述环形件（112）的直径，所述升降模组（3）处于下降状态时，所述环形扣（21）罩设在所述环形件（112）上，所述环形扣的下边沿（211）高度小于所述环形件的上边沿（1121）高度。/n