[发明专利]一种亮光免底涂基膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201911420648.3 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111114070A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 齐先锋;方文斌;尤圣隆;王兆中 | 申请（专利权）人： | 安徽金田高新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/32 | 分类号： | B32B27/32;B32B27/18;B32B27/06;B32B33/00;B29C69/02;B29C48/07;B29C48/18;B29C48/92;B29C59/10;B29C55/14 |
| 代理公司： | 合肥市道尔知识产权代理有限公司 34169 | 代理人： | 董艳玲 |
| 地址： | 231400 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜生产技术领域，具体为一种亮光免底涂基膜及其制备方法。本发明提出了一种亮光免底涂基膜，包括辅一层、辅二层、以及芯层，所述辅一层，其原料包括防黏剂、免底涂原料；所述辅二层，其原料包括防黏剂、聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂、聚丙烯。本发明还公开了一种亮光免底涂基膜的制备方法。本发明一种亮光免底涂基膜及其制备方法，采用三层共挤技术生产，通过改变挤出生产工艺，实现对原有表层的改变，使得薄膜在挤出复合过程中减少、甚至不使用底涂剂就能实现复合，整个生产更加的简便，生产的环境大为改善，减少了资金投入，生产效率得到了提高。同时，生产出来的亮光免底涂基膜，粘合性好，性能强，稳定性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 亮光 免底涂基膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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