[发明专利]下电极组件、等离子体处理装置及其工作方法有效
| 申请号： | 201911393006.9 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN113130279B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 雷仲礼 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张妍 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种下电极组件、等离子体处理装置及其工作方法。其中该下电极组件包括静电夹盘、基座、流体循环层。静电夹盘用于吸附待处理基片。基座用于承载静电夹盘，基座包括冷却层和位于冷却层上方的加热层，冷却层内设置冷却通道。加热层，其位于冷却层上方，所述加热层内设置加热装置。流体循环层位于加热层上方，内部设置容纳流体媒介的流体通道，流体媒介用于对静电夹盘的温度分布进行调节。本发明通过使用流体介质以径向方式均衡加热元件的不均匀性，对应于下面的加热装置的几个流体通道可以用于提供温度分布的径向对称，以达到对静电夹盘的温度分布进行调节的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 组件 等离子体 处理 装置 及其 工作 方法 | ||
【主权项】：
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