[发明专利]一种基于迁移学习确定EUV掩膜版缺陷尺寸的方法有效
| 申请号： | 201911388193.1 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111145162B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 陈颖;董立松;陈睿;吴睿轩;粟雅娟;韦亚一 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06N3/0464;G06N3/08 |
| 代理公司： | 南京中盟科创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32279 | 代理人： | 江冬萍 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的一种基于迁移学习确定EUV掩膜版缺陷尺寸的方法，包括以下步骤，S1：针对两种缺陷，在已知的、不同的缺陷尺寸的情况下，通过光刻机投影得到空间像分布，分别收集大量bump样本和少量pit样本；S2：整理两种样本数据，分别分出名为训练集和测试集两部分数据；S3：针对bump样本，利用机器学习算法和训练集中的样本数据，建立并调试EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型；S4：采用测试集中的bump样本数据，对EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型进行测试，若测试失败则返回步骤S3，若测试通过进入下一步；S5：在S3和S4训练出的EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型的基础上，采用pit样本的训练集数据，进一步调试EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型，并采用pit样本测试集中的样本数据，对EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型进行测试。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 迁移 学习 确定 euv 掩膜版 缺陷 尺寸 方法 | ||
【主权项】：
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