[发明专利]高温真空炉及半导体加工设备有效
申请号: | 201911365910.9 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN111020703B | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 陈志兵;李旭刚 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B33/00;C30B33/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;王婷 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请实施例提供了一种高温真空炉及半导体加工设备。该高温真空炉包括:炉体、工艺管、加热器组件及电极组件,工艺管沿竖直方向设置于炉体内,且工艺管的开口位于炉体的底部,工艺管内的恒温区远离开口设置;加热器组件位于炉体内,并且套设于工艺管的外侧与恒温区的位置对应设置;电极组件一端与所述加热器组件电连接,另一端穿过所述炉体的顶壁且延伸至炉体外侧。本申请实施例可以使得炉体结构简单紧凑,从而可以便于炉体的拆装,进而可以大幅提高本申请实施例的维护及使用成本。另外由于工艺管的开口及恒温区距离较远,能够快速升温及加热工艺管的恒温区,进而可以有效提高晶圆的工艺性能及工艺效率。 | ||
搜索关键词: | 高温 真空炉 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司,未经北京北方华创微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911365910.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种机模全硅胶外观成型方法
- 下一篇:一种EB模压倒角实木复合地板生产方法