[发明专利]一种低应力四面体非晶碳复合膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201911363744.9 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN111005000B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 李洪;郭朝乾;汪唯;林松盛;石倩;韦春贝;唐鹏;苏一凡;代明江 | 申请（专利权）人： | 广东省科学院新材料研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 | 代理人： | 莫瑶江 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低应力四面体非晶碳复合膜及其制备方法，涉及镀膜技术领域。四面体非晶碳复合膜将韧性金属层穿插于基体和四面体非晶碳膜之间，韧性金属层用于吸收四面体非晶碳膜持续生长的残余应力，随着复合膜厚度的增加，金属层可以持续吸收残余应力，这样可以保证复合膜与基体的稳固结合，使薄膜在刀具切削过程中不易脱落。同时金属层穿插也可以防止四面体非晶碳膜颗粒聚集长大，提高了膜层的表面质量。本发明提供的低应力四面体非晶碳复合膜的制备方法简单可行，其制备得到的四面体非晶碳复合膜残余应力低，复合膜与基体的结合力好，硬度高，表面质量好，厚度可控。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应力 四面体 非晶碳 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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