[发明专利]一种气相沉积反应腔体的清洗装置、清洗系统及清洗方法有效
| 申请号： | 201911347026.2 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN111112267B | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 刘凯;王力 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/30 | 分类号： | B08B9/30;B08B9/34;H01L21/20 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 刘长春 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种气相沉积反应腔体的清洗装置、清洗系统及清洗方法，该气相沉积反应腔体的清洗装置(20)包括清洗室(21)、若干液体喷淋头(22)和排液口(23)，其中，所述清洗室(21)的底部从四周至中心逐渐凹陷，所述排液口(23)设置于所述清洗室(21)底部的中心位置处；所述若干液体喷淋头(22)分布于所述清洗室(21)的底部。该清洗装置将清洗室的底部设置为从四周至中心逐渐凹陷，使得清洗室的外围区域高、中心位置低，排液口位于清洗室底部最低处，能够保证清洗溶液彻底排净，残余溶液不会积留在清洗室内，降低了残余溶液对气相沉积反应腔体的污染，提高了对气相沉积反应腔体清洗的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 反应 清洗 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
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