[发明专利]基于大数值孔径物镜整合暗场观察的椭偏仪及测量方法有效
申请号: | 201911345061.0 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN110987817B | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 陈修国;庄锦峰;刘世元 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21;G01N21/01 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智;孔娜 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于光学测量相关技术领域,并具体公开了一种基于大数值孔径物镜整合暗场观察的椭偏仪及测量方法。所述椭偏仪包括物镜、镜筒透镜以及关于其中心轴对称布置的照明光路模块和明场光路模块,照明光路模块包括光源、单色仪、光纤、起偏臂以及第一反射镜,明场光路模块包括第二反射镜、检偏臂以及明场检测器。所述方法包括选择指定波长和特征的偏振光,先后经过照明光路模块实现偏振测量的倾斜入射条件,然后引入反射镜和垂直物镜光路,经过明场光路模块和暗场光路模块,可以同时实现明场和暗场观察测量。本发明可实现纳米结构薄膜光学常数以及膜厚、纳米结构特征线宽、线高、侧壁角等几何参数的全视场高分辨率、低成本、非破坏性精确测量。 | ||
搜索关键词: | 基于 数值孔径 物镜 整合 暗场 观察 椭偏仪 测量方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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