[发明专利]振镜幅面校正方法及标准校正板在审
申请号: | 201911336652.1 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN110987378A | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 王雪辉;雷桂明;许维;路清彦 | 申请(专利权)人: | 武汉华工激光工程有限责任公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 冯洁 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种振镜幅面校正方法及标准校正板,涉及振镜校正技术领域。该振镜幅面校正方法包括:初步校正振镜,以使经过振镜反射的激光能照射于标刻平面。关闭激光将标准校正板放置于标刻平面,使校正平面与标刻平面重合。将振镜反射至校正平面的坐标点校正到与相对应的特征点的坐标重合。取下标准校正板,将第一工件模板放于标刻平面,使第一加工面与标刻平面重合。开启激光,以多个特征点在第一加工面对应的位置进行标刻。将振镜反射激光至第一加工面的坐标校正到与相对应的特征点的坐标重合。本发明提供的振镜幅面校正方法及标准校正板能实现不需要人工量测及不需要借用专用振镜校正的设备或者仪器,并高效地完成振镜的校正工作。 | ||
搜索关键词: | 幅面 校正 方法 标准 | ||
【主权项】:
暂无信息
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