[发明专利]一种透明材料暗场散射图像的缺陷三维重构方法在审
| 申请号： | 201911336417.4 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN110954557A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 李璐璐;刘乾;张辉;黄文 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | G01N21/958 | 分类号： | G01N21/958 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 宋辉 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透明材料暗场散射图像的缺陷三维重构方法，包括步骤：对被测样品进行轴向扫描测量，获得缺陷暗场散射图像，并读入三维矩阵中；将缺陷区域与背景初步分离；寻找缺陷区域边界，确定各个缺陷区域；增强缺陷散射核心区域与杂光区域的对比度，并降低噪声，去掉杂光区域，提取缺陷散射核心区域；沿轴向对每个横向像素对应的轴向光强曲线进行分析，计算轴向光强曲线的峰值，确定焦面的轴向位置；确定每个缺陷的中心坐标和实际尺寸。本发明通过先提取缺陷散射核心区域的方式，提取有缺陷的区域进行分析，减少数据处理量，然后使用轴向光强分析方法重构缺陷的三维形态；可以简单快速地从缺陷暗场散射图像中获得缺陷三维分布信息。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透明 材料 暗场 散射 图像 缺陷 三维 方法 | ||
【主权项】：
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