[发明专利]一种含镓的非线性光学晶体材料及其合成方法与应用有效

专利信息
申请号: 201911320454.6 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN112575368B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 刘彬文;郭国聪;姜小明;徐忠宁;曾卉一 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B1/10 分类号: C30B1/10;C30B28/02;C30B29/12
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 张莹;王聪
地址: 350002 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 本申请公开了一种晶体材料、其合成方法及其在非线性光学中的应用。该晶体材料具有A2Li2Ga3Q6X的化学式,其中,A选自K、Rb、Cs的至少一种;Q选自S或Se;X选自Cl或Br。该晶体材料采用高温固相法合成。该晶体材料具有优良的红外非线性光学性能,非线性效应是商用AgGaS2的0.3‑2.0倍,激光损伤阈值是商用AgGaS2的3‑25倍,性能有很大的提高,是潜在的红外非线性光学材料。
搜索关键词: 一种 非线性 光学 晶体 材料 及其 合成 方法 应用
【主权项】:
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