[发明专利]一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统有效
| 申请号： | 201911206979.7 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112882347B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 吴萍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统。其中测量装置包括光源模块，用于产生第一光束和第二光束；衍射引导单元，用于引导第一光束和/或第二光束经由一维光栅衍射后的衍射光回射至一维光栅，和/或引导第一光束和/或第二光束衍射后的反射光回射至一维光栅，并输出光束；探测模块，用于接收输出光束；信号处理模块，用于计算一维光栅沿第二方向的位移和沿第三方向的位移；或者计算一维光栅沿第一方向的位移和第三方向的位移。本发明实施例的技术方案，可以实现利用一维光栅进行两个自由度的高精度、高稳定性位移测量，且可以匹配一维光栅的栅线方向切换的场景下的连续测量，具有结构简单、成本低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 切换 位移 测量 装置 测量方法 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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