[发明专利]一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置在审
| 申请号： | 201911198182.7 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110941100A | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 王伟波;张宝元;吴必伟;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G02B27/58 | 分类号： | G02B27/58;G02B21/00;G02B21/06;G02B21/36;G01N21/64 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置属于光学显微测量领域，针对透明薄样品和厚散射样品的不同成像需求，通过不同光源的选取，设计多光子激发成像与普通宽场荧光成像相结合的多模式成像装置，两光源经分束镜的组合可实现多种模式的切换。使用一个固定的微透镜阵列精确控制照明模式和激发点的位置，以生成稀疏的焦点照明，完成对样品的快速扫描，实现透明样品和厚样品的快速双倍分辨率成像，同时提高厚散射样品的图像对比度。此外，在成像系统中引入自适应像差校正单元，减小或消除系统像差，提升多光子成像模式下的成像深度和成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结合 光子 激发 模式 阵列 扫描 成像 装置 | ||
【主权项】：
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