[发明专利]一种高光谱图像传感器单片集成方法、传感器及成像设备有效

专利信息
申请号: 201911174534.5 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN110867461B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 高建峰;白国斌;李俊杰;杨涛;李俊峰;王文武 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种高光谱图像传感器的单片集成方法,包括:在CMOS图像传感器晶圆的感光区域表面上形成底反射层;采用多次薄膜沉积工艺和多次光刻、刻蚀工艺的方法在底反射层上形成多个台阶结构,构成透明空腔层;在透明空腔层上沉积薄膜形成顶反射层。本发明提供的高光谱图像传感器的单片集成方法,通过控制薄膜沉积工艺条件,实现对透明空腔层各个台阶的厚度的精准控制,优化了现有技术采用刻蚀工艺导致的不均匀性累积的问题。本发明还提供一种高光谱图像传感器和含有高光谱图像传感器的成像设备。
搜索关键词: 一种 光谱 图像传感器 单片 集成 方法 传感器 成像 设备
【主权项】:
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