[发明专利]DLC涂层构件的表面处理方法有效
| 申请号： | 201911173565.9 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111660206B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 间瀬恵二;石桥正三;近藤祐介 | 申请（专利权）人： | 株式会社不二制作所 |
| 主分类号： | B24C1/00 | 分类号： | B24C1/00;B24C1/10;C23C14/58;C23C14/06;C23C16/56;C23C16/26 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 瓮芳;陈桂香 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及DLC涂层构件的表面处理方法，该方法包括：将DLC涂层构件当作处理对象，所述DLC涂层构件具有涂在基材表面上的DLC膜；以0.01MPa～0.7MPa的喷射压力，将中位直径为1μm～20μm且穿过空气的下落时间不小于10s/m的大致球形的喷射颗粒喷射到所述构件的所述膜的表面上；以及在不露出所述基材的情况下，在所述膜的所述表面上形成凹坑，使得所述凹坑的总投影面积不小于处理区域的50％，并且使得所述DLC膜的所述表面被加工成算术平均高度(Sa)为0.01μm～0.1μm并且纹理纵横比(Str)不小于0.4。 | ||
| 搜索关键词： | dlc 涂层 构件 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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